Ample:N Hyaluron Shot Bubble Cleanser Čistiaca penová pena s kyselinou hyalurónovou 450 ml

Tento prípravok na umývanie tváre má jemné zloženie bublinkového typu, ktoré pleť čistí do hĺbky a zároveň ju upokojuje. Obsahuje kyselinu hyalurónovú, ceramidy a xylitol, ktoré minimalizujú poškodenie pleti a zabraňujú strate vlhkosti. Odstraňuje nahromadené nečistoty a odumreté kožné bunky. Aktívne zložky odstraňujú prebytočný maz a pomáhajú zlepšiť textúru pokožky. Pena je vhodná na všetky typy pleti. Vďaka znižovaniu pH pleť dôkladne čistí, dezinfikuje a zabraňuje vzniku baktérií.

Obsah: 450 ml

Primerané množstvo peny jemne vmasírujte na navlhčenú pleť. Vykonajte jemnú masáž, kým prípravok nebude bublinkovať. Následne zmyte vlažnou vodou.

Aqua, Disodium Laureth Sulfosuccinate, Disodium  Cocoamphodiacetate, Glycerin, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Sorbitol, Disodium Cocoyl Glutamate, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Citric Acid, Polyglyceryl-10 Laurate, Polyglyceryl-10 Myristate, Disodium EDTA, Dirpopylene Glycol, Methyldihydrojasmonate, Isopropyl Myristate, Juniperus Mexicana Oil, Cyclamen Aldehyde, Citrus Aurantium Dulcis (Orange) Peel Oil, 3-Hexenol, Gamma-Undecalactone, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Phenethyl Alcohol, Sodium Hyaluronate, Xylityl Glucosdie, Anhydroxylitol, Octyldodecanol, Xylitol, Hyaluronic Acid, Hydrogenated Lecithin, Cermaide-3, Caprilyl Gylcol